Campus Virtual/Campus Birtuala Universidad del País Vasco/Euskal Herriko Unibertsitatea OCW aurkezpena Presentación OCW Leioa, 2008/03/26

Sumario Campus Virtual/Birtuala Información sobre OCW Atención y soporte Propiedad Intelectual Convocatoria Preguntas 1 / 8  Origen  Abril del 2001, Instituto Tecnológico de Massachusetts (MIT)  Fundación William and Flora Hewlett  Fundación Andrew W. Mellon  Abril del 2006, constitución del consorcio mundial OCW Consortium que coordina el proyecto  Objetivo  Promover y desarrollar la educación compartiendo los recursos docentes con: 1.Otros educadores que los pueden reutilizar para sus enseñanzas 2.Estudiantes, graduados y en general cualquier persona que los pueden usar para mejorar su conocimiento personal Información sobre el Proyecto OCW (1 de 2)

Sumario Campus Virtual/Birtuala Información sobre OCW Atención y soporte Propiedad Intelectual Convocatoria Preguntas 2 / 8  OCW y Enseñanza a Distancia Información sobre el Proyecto OCW (2 de 2) OCW esOCW no es Una publicación digital de materiales de estudio Equivalente a una educación en la UPV/EHU Servicio gratuito y abierto al mundo Un programa que ofrezca un título Una asignatura OCW no es un curso de Educación a Distancia y por tanto no dispondrá de foros, correo u otros medios de interacción entre el profesor y el alumno. Una asignatura OCW es un curso para el autoestudio y la consulta.

Sumario Campus Virtual/Birtuala Información sobre OCW Atención y soporte Propiedad Intelectual Convocatoria Preguntas 3 / 8  Licencia Creative Commons  Las asignaturas OCW se distribuyen con arreglo a las licencias Creative Commons (CC)  Los autores garantizan que el material que publican en el espacio OCW-UPV/EHU es original o que cuenta con los derechos:  bien directamente por ser propietarios, o  bien a través del tipo de licencia que los soporta, para ser reutilizados en “abierto” sin infringir los “copyrights” y “propiedad intelectual” de otras personas o entidades OCW y Derechos de Autor (1 de 3)

Sumario Campus Virtual/Birtuala Información sobre OCW Atención y soporte Propiedad Intelectual Convocatoria Preguntas 4 / 8  El autor cede al usuario  El derecho de usar y distribuir los materiales tal como están publicados o de forma adaptada  Con arreglo a la licencia CC, permite a los usuarios crear trabajos derivados mediante su: 1.Edición 2.Traducción 3.Modificación. Añadiéndolos, combinándolos o incorporándolos a otros materiales de otros autores OCW y Derechos de Autor (2 de 3)

Sumario Campus Virtual/Birtuala Información sobre OCW Atención y soporte Propiedad Intelectual Convocatoria Preguntas 5 / 8  El autor obliga al usuario a que  La publicación se restrinja a propósitos educativos  La publicación no se utilice para fines comerciales  Al ser referenciados, los materiales sean atribuidos a los autores originales y a la UPV/EHU  Requiere que si el original o los materiales derivados son de nuevo publicados o distribuidos, éstos sean ofrecidos libremente a otros usuarios bajo idénticas condiciones de licencia de uso fijada por los autores iniciales OCW y Derechos de Autor (3 de 3)

Sumario Campus Virtual/Birtuala Información sobre OCW Atención y soporte Propiedad Intelectual Convocatoria Preguntas 6 / 8 Atención y soporte por parte del Campus Virtual  Una asignatura publicada en OCW debe respetar determinadas normas de presentación establecidas por la Oficina OCW Bulegoa para el conjunto de contenidos  Las normas de presentación  Afectan al formato gráfico de las páginas principales de clasificación o apartados de la asignatura  No afectan al formato o contenido de los archivos (PDF, PPT, DOC, etc) que forman parte del material docente  Gestor de contenidos

Sumario Campus Virtual/Birtuala Información sobre OCW Atención y soporte Propiedad Intelectual Convocatoria Preguntas 7 / 8 distribución Propuestas, Modalidad 2 Contrato y Creación Curso 1 Curso 2 Curso 3 Publicación Selección Evaluación resolución producción OCW 2 OCW 1 Propuestas, Modalidad 1 Fases de la Convocatoria

Sumario Campus Virtual/Birtuala Información sobre OCW Atención y soporte Propiedad Intelectual Convocatoria Preguntas 8 / 8 Preguntas