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Grupos Protectores Randolph Alonso. Formation Formation 1. Me 2 SO 4, NaOH, Bu 4 N + I -, Organic Solvent 60-90% 2. MeI or Me 2 SO 4, NaH or KH, THF 3.

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1 Grupos Protectores Randolph Alonso

2 Formation Formation 1. Me 2 SO 4, NaOH, Bu 4 N + I -, Organic Solvent 60-90% 2. MeI or Me 2 SO 4, NaH or KH, THF 3. CH 2 N 2, Silica gel, 0-10 o C, 100% yield Methyl Ether ROMe

3 4. MeI, Solid KOH, DMSO, 20 o, 5-30 min., 85%. Ref. T. Nakata, Tetrahedron lett., 26, 6461 (1985) 5. Debido al incremento de la acidez y un reducido requerimiento estérico del carbohydrato hydroxilo, t-BuOK puede usarse como una base Methyl Ether ROMe

4 6. Me 2 SO 4, DMSO, DMF, Ba(OH) 2, BaO, rt. 18h, 98% Remoción 1. MeSiI, CHCl 3, 25 o C, 6h, 95% 2. BBr 3, NaI, 15 crown-5 Methyl Ester no son removidos Methyl Ether ROMe

5 3. BBr 3. ETOAC, 1h, 95%, o BBr3, CH 2 Cl 2, 3. BBr 3. ETOAC, 1h, 95%, o BBr3, CH 2 Cl 2, 4. BF 3 ET 2 O, HSCH 2 -CH 2 -SH, HCl, 15 h, 82% 5. Methyl Ether ROMe

6 Metoximetil Eter CH 3 OCH 2 -OR Metoximetil Eter CH 3 OCH 2 -OR 1. CH 3 OCH 2 -Cl, NaH, THF, 80% Mono MOMO Derivados de Dioles Methyl Ether

7 Remoción 1. Cat.HCl[], MeOH, 62 o C, 15 min. 2. 6M HCl, THF, 50 o C, 95% Methyl Ether

8 Tetrahydropirano Ether (THP-OR) Tetrahydropirano Ether (THP-OR) Dihydropirano, TsOH, CH 2 Cl 2. 2 o C Dihydropirano, TsOH, CH 2 Cl 2. 2 o C Remoción Explosión ocurre cuando se destila Methyl Ether

9 t-butil Éter t-butil Éter Puede ser preparado con varios alcoholes incluyendo alcoholes alílicos. El éter es estable, excepto frente a los ácidos. Isobutilene, BF 3 ET 2 O, H 3 PO 4, 100% Remoción N 2, CF 3 COOH, 0-20 o, 1-16 h, 80-90% Methyl Ether

10 Benzyl Ether (Br-OR) PhCH 2 -O-R Benzyl Ether (Br-OR) PhCH 2 -O-R 1. BnCl, KOH, 140 o C, 86% 2. BnCl, Bu 4 N + HSO 4 -, 50% KOH, Benzene. 3. NaH, THF, BnBr, Bu 4 N + I - 20 o, 3h, 100% Benzyl Ether

11 Remoción 1. H 2 /Pd-C, EtOH, 95% Pd<, J. Org. Chem., 29, 3725, Raney Nickel W4, EtOH, H 2 3. NaNH 3, 15 seg., 97% Benzyl Ether

12 Phenyl benzyl Ether p-C 6 H 5 -C 6 H 4 -CH 2 -OR / NaH Remoción Pd/C H 2 / EtOAc 52% Ref. Am Chem. Soc, 113, 6320, 1991.

13 Trimetil Silano Éter (TMS-OR) Trimetil Silano Éter (TMS-OR) Formación Me 3 SiCl, Et 3 N, THF, 25 o, 8h, 90% : Remoción : 1. Bu 4 N + F -, THF, Conditions Apróticas. 2. K 2 CO 3, MeOH Anhydrous, 0 o C 100 o C Éter de Silano

14 Trietilsilano (TES-OR) Et 3 SiOR Trietilsilano (TES-OR) Et 3 SiOR Et 3 SiCl, Pyr 2% HF o HF/Pyr. Remoción 2% HF o HF/Pyr. t-Butil Dimethylsilylether TBDMS-OR (t-BuMe 2 - SiOR) t-Butil Dimethylsilylether TBDMS-OR (t-BuMe 2 - SiOR) TBDMS-Cl, Imidazole, DMF, 25 o C, 10h, % TBDMS-Cl, Imidazole, DMF, 25 o C, 10h, % Éter de Silano

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16 Remoción Bu 4 N + F -, THF, 25 o C, 1h > 90% yield El ión Fluoruro es muy básico, especialmente en condiciones anhidras. Ésta puede ser controlada con la adición de ácido acético. Comercial 1 TBAF, contiene H 2 O, rendimiento Molecular Sieve 2.3% Molecular Sieve 2.3% 2 KF, 18-Crow-6 2 KF, 18-Crow-6 Éter de Silano

17 selectivo de R-OH Primarios en presencia de Secundarios. Remoción selectivo de R-OH Primarios en presencia de Secundarios. o Ácido Trifluoroacético, H 2 O, CH 2 Cl 2, (9:1), rt, 96h Éter de Silano

18 R = TBDMS o TBDPS R = TBDMS o TBDPS Éter de Silano

19 El TBDPS-OR (t-BuPh 2 -Si-O-R) El TBDPS-OR (t-BuPh 2 -Si-O-R) 100 > más estable TBDMS El TBDPS < estable frente a una base que TBDMS K 2 CO 3 /MeOH 9M MH 4 OH 60 o C Estable 80% ACOH que cliva a TBDMS 80% ACOH que cliva a TBDMSHBr/AcOH Éter de Silano

20 Formación Formación TBDPSi-Cl, Imidazol, DMF, rt Remueve con Bu 4 N + F -, THF, 25 o C, 1-5h, 90% Py, HF, THF LiAlH 4 en algunos casos puede remover Éter de Silano

21 Tricloro acetato Tricloro acetato Formación Cl 3 C-COCl, Py, DMF, 20 o C, 2 días, 87%, NH 3, EtOH, CGCl 3, 6h, 81% Remoción, NH 3, EtOH, CGCl 3, 6h, 81% Es selectivo en presencia de acetato Acetato

22 Éster Benzoate (Bz-OR) PhCO 2 -R Éster Benzoate (Bz-OR) PhCO 2 -R El Éster de Benzoato es uno de los más comunes ésteres usados para protección de alcoholes, > estables que acetatos > estables que acetatos Formación BzCl o Bz 2 O, Py, 0 o C Benzoilchloride / CH 2 Cl 2 Éster de Benzoato

23 selectiva Remoción selectiva T.L. 35, 9717, 1994 Éster de Benzoato

24 Metilen Acetal Metilen Acetal 1. 40% CH 2 O, conc. HCl, 50 o C, 4 días 2. Paraformaldehido, H 2 SO 4, AcOH, 90 o C, 1 h. 3. (MeO) 2 CH 2, lutidine 4. CH 2 Br 2, KOH, DMSO, rt, 49% Protección con cíclico acetales y cetales

25 Remoción 1. BCl 3, CH 2 Cl, -80 o C, 30 min. 2. HF, EtOH, THF, 0-5 o C, 14h Protección con cíclico acetales y cetales

26 Ethylidiene Acetal Ethylidiene Acetal CH 3 CHO, CH 3 CH(OMe) 2 o Paraldehyde, [ ] H 2 SO 4 / TsOH, H 2 O, THF, 72%. Protección con cíclicos acetales y cetales

27 Acetonida (Isopropylidena Cetal) Acetonida (Isopropylidena Cetal) Más comúnmente utilizado en 1,2 diol. Protección con cíclicos acetales y cetales

28 Isomerización Isomerización Remoción 1. 1N HCl, TFH 2. 2N HCl, 80 o, 6h 3.BCl 3, Et 2 O CF 3 CO 2, THF, H 2 O, 83% Protección con cíclicos acetales y cetales

29 Ethoxietilene HC(OMe) 3 o HC(OEt) 3, Ácido catalítico. Ethoxietilene HC(OMe) 3 o HC(OEt) 3, Ácido catalítico. 98% Ácido Fórmico, HCl Remoción 98% Ácido Fórmico, HCl Protección con cíclico acetales y cetales

30 Metil Éter Metil ÉterFormación 1. MeI, K 2 CO 3, Cetona, Reflux, 6h 2. Me 2 SO 4, NaOH, EtOH, reflux, 3h 3. LiCO 3, MeI, DMF, 55 o C, 18h, 54-90% Protección de Fenoles

31 Diazometano, Éter, 80% Diazometano, Éter, 80% Methyl Ether Ph-OMe

32 Remoción 1. Me 3 SiI, CHCl 3, 25 o C, 72% 2. K +, Tolueno, 18crow-6, 100% 3. Sodio Benzylselenide PhCH 2 SeNa o sodio Tiocresolato pCH 3 -Ph C 6 H 4 SNa en DMF Reflux Methyl Ether Ph-OMe

33 Remoción J prakt. Chem / Chem Ztg., 337, 405, 1995

34 Methyl Ether Ph-OMe

35 Benzil Éter PhCH 2 -O-R Remoción, H 2 / Pd/ C / Ac 2 O

36 Aril toluen sulfonato ArOSO 2 C 6 H 4 -p-CH 3 Remoción KOH, H 2 O, EtOH

37 Protección de Catecoles Acetato de Metileno Formación CH 2 Br, NaOH,76% BrCH 2 Cl, DMF, CsCO 3, 86% Remoción AlBr 3, CH 3 SCH 3, BCl 3,CH 3 SCH 3,83%, 98% Carbonato Cíclico

38 Acetales o Cetales R 2 (OCH 3 ) 2 MeOH, HCl seco, 2 min. MeOH, MH 4 Cl, reflux, 1.5 h, 66%

39 1,3 Dioxano y 1,3 Dioxolanos

40 Remoción pyridium tosilato (PPTS), Cetona, Agua, calor, 100% 5% HCl, THF, 25 o, 20 h.

41 N-t-Butoxicarbonilamida (BOC-NRCO-) t-C 4 H 9 OCO-NRCO- Formación (BOC) 2 O, Et 3 N, DMAP, 25 o C, 15h, % BuLi, (BOC) 2 O Remoción MeONa, LiOH, NH 2 NH 2, TMSOTf, CH 2 Cl 2


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