Grupos Protectores Randolph Alonso

1. Me2SO4, NaOH, Bu4N+I-, Organic Solvent 60-90% Methyl Ether ROMe Formation 1. Me2SO4, NaOH, Bu4N+I-, Organic Solvent 60-90% 2. MeI or Me2SO4, NaH or KH, THF 3. CH2N2, Silica gel, 0-10 oC, 100% yield

Methyl Ether ROMe 4. MeI, Solid KOH, DMSO, 20o, 5-30 min., 85%. Ref. T. Nakata, Tetrahedron lett., 26, 6461 (1985) 5. Debido al incremento de la acidez y un reducido requerimiento estérico del carbohydrato hydroxilo, t-BuOK puede usarse como una base

6. Me2SO4, DMSO, DMF, Ba(OH)2, BaO, rt. 18h, 98% Methyl Ether ROMe 6. Me2SO4, DMSO, DMF, Ba(OH)2, BaO, rt. 18h, 98% Remoción 1. MeSiI, CHCl3, 25oC, 6h, 95% 2. BBr3, NaI, 15 crown-5 Methyl Ester no son removidos

Methyl Ether ROMe 3. BBr3. ETOAC, 1h, 95%, o BBr3, CH2Cl2,  4. BF3ET2O, HSCH2-CH2-SH, HCl, 15 h, 82% 5.

Metoximetil Eter CH3OCH2-OR Methyl Ether Metoximetil Eter CH3OCH2-OR 1. CH3OCH2-Cl, NaH, THF, 80% Mono MOMO Derivados de Dioles

Methyl Ether Remoción 1. Cat.HCl[], MeOH, 62oC, 15 min. 2. 6M HCl, THF, 50oC, 95%

Tetrahydropirano Ether (THP-OR) Methyl Ether Tetrahydropirano Ether (THP-OR) Dihydropirano, TsOH, CH2Cl2. 2oC Remoción Explosión ocurre cuando se destila

Methyl Ether t-butil Éter Puede ser preparado con varios alcoholes incluyendo alcoholes alílicos. El éter es estable, excepto frente a los ácidos. Isobutilene, BF3ET2O, H3PO4, 100% Remoción N2, CF3COOH, 0-20o, 1-16 h, 80-90%

Benzyl Ether (Br-OR) PhCH2-O-R 1. BnCl, KOH, 140oC, 86% 2. BnCl, Bu4N+HSO4-, 50% KOH, Benzene. 3. NaH, THF, BnBr, Bu4N+I- 20o, 3h, 100%

Benzyl Ether Remoción 1. H2/Pd-C, EtOH, 95% Pd<, J. Org. Chem., 29, 3725, 1964. 2. Raney Nickel W4, EtOH, H2 3. NaNH3, 15 seg., 97%

Benzyl Ether Phenyl benzyl Ether p-C6H5-C6H4-CH2-OR / NaH Remoción Pd/C H2 / EtOAc 52% Ref. Am Chem. Soc, 113, 6320, 1991.

Trimetil Silano Éter (TMS-OR) Éter de Silano Trimetil Silano Éter (TMS-OR) Formación Me3SiCl, Et3N, THF, 25o, 8h, 90% Remoción : 1. Bu4N+F-, THF, Conditions Apróticas. 2. K2CO3, MeOH Anhydrous, 0oC 100oC

Trietilsilano (TES-OR) Et3SiOR Éter de Silano Trietilsilano (TES-OR) Et3SiOR Et3SiCl, Pyr Remoción 2% HF o HF/Pyr. t-Butil Dimethylsilylether TBDMS-OR (t-BuMe2-SiOR) TBDMS-Cl, Imidazole, DMF, 25oC, 10h, %

Éter de Silano

Bu4N+F-, THF, 25oC, 1h > 90% yield Éter de Silano Remoción Bu4N+F-, THF, 25oC, 1h > 90% yield El ión Fluoruro es muy básico, especialmente en condiciones anhidras. Ésta puede ser controlada con la adición de ácido acético. Comercial 1 TBAF, contiene H2O,  rendimiento Molecular Sieve 2.3% 2 KF, 18-Crow-6

Éter de Silano Remoción selectivo de R-OH Primarios en presencia de Secundarios. o Ácido Trifluoroacético, H2O, CH2Cl2, (9:1), rt, 96h

Éter de Silano R = TBDMS o TBDPS

El TBDPS-OR (t-BuPh2-Si-O-R) Éter de Silano El TBDPS-OR (t-BuPh2-Si-O-R) 100 > más estable TBDMS El TBDPS < estable frente a una base que TBDMS K2CO3/MeOH 9M MH4OH 60oC Estable 80% ACOH que cliva a TBDMS HBr/AcOH

Formación Éter de Silano TBDPSi-Cl, Imidazol, DMF, rt Remueve con Bu4N+F-, THF, 25oC, 1-5h, 90% Py, HF, THF LiAlH4 en algunos casos puede remover

Tricloro acetato Acetato Formación Cl3C-COCl, Py, DMF, 20oC, 2 días, 87% Remoción, NH3, EtOH, CGCl3, 6h, 81% Es selectivo en presencia de acetato

Éster Benzoate (Bz-OR) PhCO2-R Éster de Benzoato Éster Benzoate (Bz-OR) PhCO2-R El Éster de Benzoato es uno de los más comunes ésteres usados para protección de alcoholes, > estables que acetatos Formación BzCl o Bz2O, Py, 0oC Benzoilchloride / CH2Cl2

Éster de Benzoato Remoción selectiva T.L. 35, 9717, 1994

Metilen Acetal Protección con cíclico acetales y cetales 1. 40% CH2O, conc. HCl, 50oC, 4 días 2. Paraformaldehido, H2SO4, AcOH, 90oC, 1 h. 3. (MeO)2CH2, lutidine 4. CH2Br2, KOH, DMSO, rt, 49%

Remoción 1. BCl3, CH2Cl, -80oC, 30 min. 2. HF, EtOH, THF, 0-5oC, 14h Protección con cíclico acetales y cetales Remoción 1. BCl3, CH2Cl, -80oC, 30 min. 2. HF, EtOH, THF, 0-5oC, 14h

Protección con cíclicos acetales y cetales Ethylidiene Acetal CH3CHO, CH3CH(OMe)2 o Paraldehyde, [ ] H2SO4/ TsOH, H2O, THF, 72%.

Protección con cíclicos acetales y cetales Acetonida (Isopropylidena Cetal) Más comúnmente utilizado en 1,2 diol.

Isomerización Protección con cíclicos acetales y cetales Remoción 1. 1N HCl, TFH 2. 2N HCl, 80o, 6h 3.BCl3, Et2O CF3CO2, THF, H2O, 83%

Protección con cíclico acetales y cetales Ethoxietilene HC(OMe)3 o HC(OEt)3, Ácido catalítico. Remoción 98% Ácido Fórmico, HCl

Protección de Fenoles Metil Éter Formación 1. MeI, K2CO3, Cetona , Reflux, 6h 2. Me2SO4, NaOH, EtOH, reflux, 3h 3. LiCO3, MeI, DMF, 55oC, 18h, 54-90%

Methyl Ether Ph-OMe Diazometano, Éter, 80%

3. Sodio Benzylselenide PhCH2SeNa o Methyl Ether Ph-OMe Remoción 1. Me3SiI, CHCl3, 25oC, 72% 2. K+, Tolueno, 18crow-6, 100% 3. Sodio Benzylselenide PhCH2SeNa o sodio Tiocresolato pCH3-Ph C6H4SNa en DMF Reflux

Methyl Ether Ph-OMe J prakt. Chem / Chem Ztg., 337, 405, 1995 Remoción

Methyl Ether Ph-OMe

Benzil Éter PhCH2-O-R Remoción, H2 / Pd/ C / Ac2O

Aril toluen sulfonato ArOSO2C6H4-p-CH3 Remoción KOH, H2O, EtOH

Protección de Catecoles Acetato de Metileno Formación CH2Br, NaOH,76% BrCH2Cl, DMF, CsCO3, 86% Remoción AlBr3, CH3SCH3, BCl3,CH3SCH3,83%, 98% Carbonato Cíclico

Acetales o Cetales R2(OCH3)2 MeOH, HCl seco, 2 min. MeOH, MH4Cl, reflux, 1.5 h, 66%

1,3 Dioxano y 1,3 Dioxolanos

1,3 Dioxano y 1,3 Dioxolanos Remoción pyridium tosilato (PPTS), Cetona, Agua, calor, 100% 5% HCl, THF, 25o, 20 h.

N-t-Butoxicarbonilamida (BOC-NRCO-) t-C4H9OCO-NRCO- Formación (BOC)2O, Et3N, DMAP, 25o C, 15h, 78-96 % BuLi, (BOC)2O Remoción MeONa, LiOH, NH2NH2, TMSOTf, CH2Cl2